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洁净室中的温湿度控制

洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

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我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的设计、建造发展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室;与此同时，洁净厂房用设备和材料，如过滤器，洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功，并投入生产，虽然制造质量和某些工程指标与国际水平尚有差距，但已能满足国内部分需求。由过滤器、净化设备和围护结构(墙板、顶棚.地面)组装而成的装配式洁净室研制成功。到20世纪70年代末我国洁净室设计、建造和洁净工程的发展走向成熟阶段。